六、離子束加工（Ion Beam Machining）

（1）基本原理

離子束加工是在真空狀態(tài)下，將離子源產(chǎn)生的離子流，經(jīng)加速、聚焦達(dá)到工件表面上而實(shí)現(xiàn)加工。

（2）主要特點(diǎn)

由于離子流密度及離子能量可以精確控制，因而能精確控制加工效果，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)乃至分子、原子級(jí)的超精密加工。離子束加工時(shí)，所產(chǎn)生的污染小，加工應(yīng)力變形極小，對(duì)被加工材料的適應(yīng)性強(qiáng)，但加工成本高。

（3）使用范圍

離子束加工依其目的可以分為蝕刻及鍍膜兩種。

1）蝕刻加工

離子蝕刻用于加工陀螺儀空氣軸承和動(dòng)壓馬達(dá)上的溝槽，分辨率高，精度、重復(fù)一致性好。離子束蝕刻應(yīng)用的另一個(gè)方面是蝕刻高精度圖形，如集成電路、光電器件和光集成器件等電子學(xué)構(gòu)件。離子束蝕刻還應(yīng)用于減薄材料，制作穿透式電子顯微鏡試片。

2）離子束鍍膜加工

離子束鍍膜加工有濺射沉積和離子鍍兩種形式。離子鍍可鍍材料范圍廣泛，不論金屬、非金屬表面上均可鍍制金屬或非金屬薄膜，各種合金、化合物、或某些合成材料、半導(dǎo)體材料、高熔點(diǎn)材料亦均可鍍覆。

離子束鍍膜技術(shù)可用于鍍制潤(rùn)滑膜、耐熱膜、耐磨膜、裝飾膜和電氣膜等。

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